用途概况：

   高真空晶体炉采用感应加热、电阻加热方式，可用铱金、铂金、石墨、钼等坩埚。

主要用途和适用范围：

   可以生长氧化物晶体（如YAG:Nd、Al2O3、TeO2、LiTaO3、LiNbO3等），是科研院所、企事业单位新晶体材料的提拉法、下降法、泡生法、温梯法生长性能研究和生产的优良可靠设备。

主要功能与特点：

高精度丝杠、高质量电机使得传动系统更加和稳定。

模块化电路设计，控制电路更加稳定、可靠、易于维护。

高精度重量传感器保证了出色的自动直径控制性能。

全电脑控制，晶体外形控制更出色、更少人工监测。

关键参数实时呈现，晶体生长过程一目了然。

紧急情况自动处理，为设备和坩埚提供一定的安全保障。

技术参数：

01 原理 加热采用感应加热方式，坩埚在石英管内，封装在外壳内。分子泵外置。 

02 石英桶 80x90x400 用于放置坩埚保温材料。

03 中频功率 15KW，2.5kHz 

04 真空 5*10-3PA冷炉极限真空

05 慢速提拉 0.1-10mm/h 

06 快速提拉 10-70mm/min 

07 旋转速度 0.1-50r/min 

08 坩埚  35×35，可加热至1600度 材质Pt，

09 下部密封 与石英桶密封，循环水强制冷却。抽真空接口，充气口。 

10 上部密封 与石英桶密封，循环水强制冷却，与上提拉波纹管接口 

11 旋转机构 包括旋转电机，旋转密封磁流体 

12 提拉机构旋转机构安装上提拉机构移动块上。提拉机构包括，步进电机，减速机，滚珠丝杠、导轨，立柱和立柱旋转机构。 

13 HMI 用于设定升降问程序，运行，停止、暂停，中频启停。升降控制包括，慢升，慢降，快升和快降及速度大小。

（快升为手按住升或将，松开停止）旋转控制包括：正转，反转，停止，速度大小 

14 指示灯 三色，红、黄、绿，用于故障报警 

15 为控制柜 包括温度控制，运动控制电器等安装参数

工作电源	AC380V 50HZ
工作温度范围	500~2000℃
称重系统	上称量程3~5kg,分辨率10mg,精度≤50mg 下称分辨率10mg,精度10mg
功率可选配	20~100KW

可根据客户要求定制真空度及尺寸

中国科学院上海光学精密机械研究所实验炉质量优势:

   中国科学院上海光学精密机械研究所资深高级工程师、工学硕士、博士可以为贵公司、科研院所共同选型实验炉，高级设计师共同做高温炉设计方案。